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流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網過濾實現銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態雜質鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。
溶劑萃取法（化學法） 以濕法冶金為基礎，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。
物理分離法中的機械剝離技術，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進行分離。隨后，再結合化學處理對分離出的ITO涂層進行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。再生銦的應用廣泛，包括重新制備ITO靶材，以及在半導體、合金等領域的使用。從經濟角度看，回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采，同時，回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述，ITO銦的回收不僅對環境友好，還能帶來顯著的經濟效益。隨著科技的不斷進步和電子廢棄物數量的不斷增加，且環保的回收方案將成為稀散金屬可持續利用的關鍵所在。