氧化銦是一種寬禁帶半導體，具有良好的光學透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導電性。這種成分結構使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學和電學性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設備和顯示技術。
流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網過濾實現銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態雜質鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。
銦回收的重要性 銦在ITO靶材、半導體、合金等領域的應用表明其在電子和光伏產業中的關鍵作用，推動了銦回收的必要性。銦，這一關鍵元素在ITO廢料回收中扮演著至關重要的角色。通過回收這些廢料，可以顯著減少原礦開采成本，高達50%。同時，隨著半導體和光伏領域的迅猛發展，對高純銦的需求也呈現出剛性增長，進一步凸顯了銦回收的緊迫性和重要性。
ITO靶材回收現狀 隨著科技的飛速發展，ITO靶材的需求量持續增長。然而，ITO靶材的生產過程中需要消耗大量的銦資源，而銦是一種稀有的有色金屬，全球儲量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不僅有助于節約資源，還能減少環境污染，實現可持續發展。 目前，市場上已有不少專業的ITO靶材回收企業，他們通過先進的回收技術和設備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進行有效分離和提純，再加工成新的靶材產品，實現了資源的循環利用。