溶劑萃取法（化學法） 以濕法冶金為基礎，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。
回收1噸銦可減少50噸原礦開采，成本降低30%~50%。高純銦需求穩定，半導體和光伏領域推動回收緊迫性。濕法、火法冶金等技術靈活適配不同廢料，實現資源可持續利用。
當前，銦的主要消費領域集中在ITO靶材上，其占比高達約70%。此外，半導體制造和合金領域的需求也不容忽視，兩者合計占總消費量的24%，而其他研究領域則占據了6%。然而，由于ITO制造過程中靶材利用率僅達30%左右，導致大量剩余材料成為廢料。加之電子廢棄物的激增，銦回收已成為資源可持續利用不可或缺的一環。隨著技術進步和應用需求的增長，ITO廢料回收能有效減少原礦資源消耗，實現資源的可持續性發展。
ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設備的理想材料。其晶體結構穩定，電導率高，確保了設備的運行。