顯示領域：廣泛應用于液晶顯示器（LCD）、有機發光二極管顯示器（OLED）等顯示器件的制造，用于形成透明導電薄膜，提高顯示器的性能和質量。
銦靶是現代電子信息、新能源、高端制造等戰略性新興產業的底層關鍵材料，其應用深度和廣度直接反映一個國家在半導體、顯示、光伏等領域的技術水平。由于全球銦資源稀缺（主要伴生于鋅礦），且提純工藝復雜，銦靶的供應鏈已成為各國關注的重點。未來，隨著 5G、AI、新能源汽車等產業的爆發，銦靶的需求將持續增長，同時推動高純銦（99.999% 以上）制備技術的不斷突破。
濺射氣體控制
氣體純度：使用高純氬氣（99.999% 以上），避免氧氣、水汽混入導致銦靶氧化（氧化銦導電性下降，易形成電弧放電）。
氣壓調節：
直流濺射（DC）：氣壓通常為 0.1~10 Pa，低氣壓下濺射速率高但薄膜致密度低；高氣壓下薄膜均勻性好但沉積速率慢。
射頻濺射（RF）：適用于絕緣基底，氣壓可略高于直流濺射，需根據薄膜厚度要求動態調整。
靶材回收與再利用
回收價值：報廢銦靶（含濺射過程中產生的碎屑、廢膜）可通過化學溶解（如鹽酸溶解）、電解精煉等工藝回收銦金屬（回收率可達 95% 以上），降低生產成本。
環保要求：回收過程中產生的廢水需處理至重金屬排放標準（如銦離子濃度≤0.1 mg/L），避免環境污染。
