銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材，是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中，銦靶材在高能粒子的轟擊下，銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面，形成所需的銦薄膜。
熱等靜壓（HIP）工藝：在高溫和高壓環境下進行燒結，能夠顯著提高材料的致密度，減少材料中的孔隙，改善材料的微觀結構，使得 ITO 靶材具有更高的電導率和機械強度，但該工藝成本較為昂貴。
光伏技術領域：在太陽能電池中，ITO 薄膜作為前電極材料，具有高透明性，能夠保證光線有效進入吸收層，從而提升光電轉換效率，適用于 CIGS、CdTe 等薄膜太陽能電池技術。
其他領域：在智能窗、透明發熱膜、紅外反射膜等領域也有應用，滿足智能建筑和汽車工業中的透明導電需求。
靶材原料（占比約 60%）：
用于制備 ITO（氧化銦錫）靶材，生產 LCD、OLED 顯示面板的透明導電膜（如手機屏幕、電視面板）。
光伏領域：作為 CIGS（銅銦鎵硒）薄膜太陽能電池的關鍵原料，提升光電轉換效率。
