銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材，是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中，銦靶材在高能粒子的轟擊下，銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面，形成所需的銦薄膜。
優異的光學性能：在可見光波段（380-780nm）內，ITO 薄膜的透光率通常能夠達到 80% 以上，高透光率確保了其在顯示器、太陽能電池等應用中的良好表現。
顯示技術領域：廣泛應用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極，確保顯示設備既能透光顯示圖像，又能導電傳輸信號。
精銦的制備需經過多步精煉，核心工藝包括：
原料預處理：以鋅冶煉副產物（如浸出渣、煙灰）或含銦廢料為原料，通過酸浸、萃取等方式初步分離銦。
電解精煉：將粗銦溶解為銦鹽溶液（如硫酸銦），通過電解沉積得到純度約 99.95% 的粗精銦。
深度提純：
真空蒸餾：在高真空條件下利用銦與雜質的沸點差異（銦沸點 2080℃，雜質如鋅沸點 907℃）去除低沸點雜質。
區域熔煉：通過移動加熱區使雜質在固液界面重新分布，多次操作后可將純度提升至 6N 以上。
化學提純：利用萃取劑（如三丁基氧化膦）或離子交換樹脂進一步去除微量金屬離子。
