ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來(lái)源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
ITO靶材回收市場(chǎng)需求持續(xù)增長(zhǎng)，尤其在顯示面板和光伏行業(yè)。
銦價(jià)高企，促使更多企業(yè)關(guān)注廢靶材的回收利用。
隨著技術(shù)進(jìn)步，回收工藝趨于環(huán)保
常見(jiàn)問(wèn)題答疑：1. 廢靶材回收價(jià)格如何計(jì)算？
主要根據(jù)靶材剩余銦錫含量、市場(chǎng)行情、回收工藝等因素浮動(dòng)。
2. 回收的銦錫純度能否滿(mǎn)足再次制靶需求？
取決于回收及精煉工藝，多數(shù)高品質(zhì)回收企業(yè)可將純度提升至制靶要求。
3. 回收周期多久？
一般為12周，具體視回收量和工藝流程而定。
提純銦的方法包括蒸餾法、電解法和區(qū)域精煉法。蒸餾通過(guò)高溫蒸發(fā)和冷凝來(lái)提純銦。電解利用電流來(lái)提純銦。區(qū)域精煉則通過(guò)移動(dòng)的熔融區(qū)來(lái)提純銦。
總之，銦靶材回收是利用銦資源的重要步驟。盡管有多種回收方法，但分離和提純銦仍是關(guān)鍵挑戰(zhàn)。應(yīng)繼續(xù)努力提高回收效率和可持續(xù)性，以確保銦資源的長(zhǎng)期可獲得性。
此外，銦在電子半導(dǎo)體領(lǐng)域也占有重要地位，消費(fèi)量占全球的12%。同時(shí)，焊料和合金領(lǐng)域?qū)︺煹男枨罅恳膊蝗菪∮U，占比同樣達(dá)到12%。另外，由于其質(zhì)地柔軟，銦還被用于某些需填充金屬的行業(yè)，如高溫下的真空縫隙填充。研究行業(yè)也占據(jù)了6%的消費(fèi)量，展現(xiàn)了銦在科研領(lǐng)域的潛力。總的來(lái)說(shuō)，銦元素以其多樣的用途和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，在工業(yè)生產(chǎn)中展現(xiàn)出了不可替代的價(jià)值。