ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽(yáng)能電池、觸摸屏等
靶材類(lèi)型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來(lái)源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
銦在半導(dǎo)體、液晶顯示器等電子器件的生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應(yīng)有限，因此從廢棄或用過(guò)的靶材中回收銦變得至關(guān)重要。
銦靶材回收的主要任務(wù)是將銦從靶材中的其他金屬和材料中分離出來(lái)，并將其提純至高純度?；厥辗椒òɑ鸱ā穹ê碗娀瘜W(xué)法。
火法冶金工藝使用高溫熔煉和精煉來(lái)回收銦。這種方法適用于大規(guī)?；厥?，但存在一些缺點(diǎn)，如產(chǎn)生危險(xiǎn)廢物、高能耗，以及可能損失有價(jià)值的銦。
濕法冶金工藝?yán)没瘜W(xué)浸出劑將銦從靶材中溶解出來(lái)。這種方法比火法更環(huán)保，適用于從成分復(fù)雜的靶材中回收銦。然而，這一過(guò)程可能較為復(fù)雜，需要使用危險(xiǎn)化學(xué)品。
電化學(xué)過(guò)程通過(guò)電流將銦從靶材中溶解和回收。這種方法也比火法更環(huán)保，可以回收較高純度的銦。但這一過(guò)程可能較為復(fù)雜，需要專(zhuān)門(mén)的設(shè)備和專(zhuān)業(yè)知識(shí)。