工藝升級：智能控制更
現在的電鍍填孔設備已經能通過傳感器實時監測電鍍液的成分和溫度，自動調整參數。比如，當檢測到孔內銅離子濃度下降時，設備會自動增加電流密度，確保填充均勻。這種智能化工藝讓生產良率從 85% 提升到了 98%。
孔金屬化：多層板的 “關鍵步驟”
多層板的過孔（孔徑通常 0.2-0.8mm）內壁為絕緣樹脂，需通過以下步驟實現導電：
除膠渣：用高錳酸鉀溶液氧化孔壁的樹脂殘渣（鉆孔時產生），避免殘渣影響金屬附著。
化學鍍銅（沉銅）：在無外接電源的情況下，將基板浸入含硫酸銅、甲醛（還原劑）的鍍液中，通過化學反應在孔壁和基板表面沉積一層薄銅（厚度 0.5-1μm），形成初始導電層。
原理：甲醛將 Cu2?還原為 Cu 單質，均勻附著在非導電的孔壁上。
電解鍍銅（加厚銅）：將沉銅后的基板作為陰極，放入含硫酸銅、硫酸的鍍液中，通以直流電（電流密度 1-2A/dm2），使銅離子在陰極放電沉積，將孔壁和線路銅層增厚至 15-35μm（滿足電流承載需求）。
選擇性電鍍（Selective Plating）
核心原理：通過遮蔽手段（如耐電鍍油墨、硅膠塞、工裝夾具）保護 PCB 非待鍍區域，僅讓目標區域（如焊盤、金手指）接觸電鍍液并沉積金屬，實現 “局部鍍層” 效果。
工藝特點：
無需后續蝕刻，直接在指定區域形成鍍層，減少材料浪費；
遮蔽精度要求高（尤其細間距焊盤，遮蔽偏差易導致鍍層缺陷）；
可靈活選擇不同鍍層（如焊盤鍍錫、金手指鍍金），兼容性強。
PCB 應用場景：
PCB “金手指” 電鍍（僅手指區域鍍金，其他區域鍍錫或裸銅，降低成本）；
局部焊盤的特殊鍍層需求（如高頻 PCB 的信號焊盤鍍銀，減少信號損耗）；
修復性電鍍（如 PCB 局部鍍層磨損后，針對性補鍍）。
垂直連續電鍍（Vertical Continuous Plating，VCP）
核心原理：PCB 以垂直姿態連續通過多個電鍍槽（依次經過酸洗、活化、電鍍、清洗等工序），通過槽內的導電輥施加電流，配合高速噴射的電鍍液，實現 “連續化、自動化” 電鍍。
工藝特點：
自動化程度高（無需人工上下料，適合大批量流水線生產）；
鍍層一致性好（PCB 垂直移動 + 均勻噴射，減少工件正反面、邊緣與中心的鍍層差異）；
設備占地面積大，初期投入成本高（需配套多槽聯動系統、自動控制系統）。
PCB 應用場景：
大批量常規 PCB 的全板電鍍 / 通孔電鍍（如消費電子 PCB、手機 PCB，日均產能可達數萬塊）；
要求高一致性的鍍層生產（如汽車電子 PCB，需保證每塊 PCB 的鍍層厚度偏差≤10%）。